工作原理
氧气是干式等离子体脱胶技术中的首要腐蚀气体。它在真空等离子体脱胶机反应室内高频和微波能的作用下，电离产生氧离子、自由氧原子O*、氧分子和电子混合的等离子体，其间氧化能力强的自由氧原子（约10-20%）在高频电压作用下与光刻胶膜发生反应：O2→O*+O*，CxHy+O*→CO2↑+H2O↑。反应后产生的CO2和H2O然后被抽走。
产品特点
触摸屏操作界面
数字及图标多重工艺参数实时显示
三色灯异常报警功能
自动/手动操作模式切换
可存储多套工艺配方
远程操控，数据导出（可选）
特殊电极、保温、气路设计，均匀性好
适用4寸以下硅晶圆的批量处理
应用领域
用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜,也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。
产品参数
型号 | ASR-36L | |
控制系统 | 控制方式 | 全自动控制（自动/手动切换） |
PLC（标配）/PC（可选） | ||
操作系统 | Windows 10 | |
触摸屏 | 7寸 | |
整机规格 | 尺寸 | W950×D1050×H1700mm |
腔体 | 尺寸 | Φ360×D360mm |
材质 | 铝合金（标配）/不锈钢（可选） | |
电极 | 尺寸 | W250×D310×H140mm |
层数 | 2层 | |
托架 | 材质 | 铝合金（标配）/石英（可选） |
套数 | 1套 | |
真空计 | 皮拉尼式真空计 | 1个 |
流量计 | MFC质量流量控制器 | 3个；Ar、N2、O2、CF4（可选） |
真空泵 | 干式泵 | 1套 |
发生器 | 射频 | 13.56MHz，0~1000W |
额定功率 | 整机峰值功率 | 13KW |
机台供电 | 三相五线式 | AC-380V |
选购品 | 防腐流量计、防腐真空计、防腐真空泵、防腐密封圈、石英舟、温度传感器、慢速泄气阀、慢速抽气阀、钢瓶减压阀、非标法兰、陶瓷紧固件 | |
