晶圆在半导体中的重要性大家应该都知道,随着工艺以及技术的不断进步,对晶圆的需求以及要求越发严格,今天我们来聊聊晶圆等离子清洗机能够发挥什么样作用?

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1、晶圆等离子清洗机

为了符合晶圆生产工艺需求制作的设备,在设计、应用等方面需要满足晶圆工艺的特殊需求;如:晶圆是圆形的,我们在腔体设计及工作区域设计需要考虑到这一点;晶圆表面清洁度要求,对整个处理环境有要求等等;所以晶圆等离子清洗机与常规的等离子清洗机设备是不一样的。

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2、晶圆等离子清洗机优势

2-1:能够解决表面清洗难题的同时提供改性活化作用,方便后续黏晶、封胶、点胶等等工艺;

2-2:附着力的提高可以让粘接更加牢固,减少分层,杜绝气泡;

2-3:通过激光工艺打穿的小孔,溶剂难以清洗,而等离子体可以轻松进入;

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晶圆等离子清洗机在晶圆工艺中作用远远不止这些,晶圆片等离子清洗机可用于成批剥离,材料包括光致抗蚀剂,氧化物,氨化物蚀刻,电介质。硅片去除污染物和氧化物,提高粘接率和可靠性等等。正是这种普适性的应用让等离子清洗工艺快速发展,解决一个个难题。